材料科学进展5.26 (报告人：冀然博士)
发布时间: 2010-05-25 11:08:00
题目：大面积基底完整纳米压印光刻技术及其应用前景
报告人 冀然博士 |
报告内容摘要：
近年来, 半导体照明技术在全球范围内引起了广泛关注。相关的产业也开始蓬勃发展。预计到2010年全球发光二极管（LED）产业市场总值将达到90亿美金。然而，目前由于发光效率的限制，LED的应用还被局限在诸如手机，掌上电脑，笔记本电脑或者汽车导航等便携设备终端的背光照明上。想要把LED这种技术应用于更多的日常照明领域，它的发光效率还有待显著的提高。在科学上光子晶体（PhC）结构已经被证明可以有效的提高发光二极管的发光效率。然而如何在发光二极管基地上面有效的低成本的生产这种高分辨率的光子晶体结构一直是对光刻生产工艺的巨大挑战。传统的大面积掩模光刻技术无法满足在波长范围的精度要求，电子束光刻的精度足够, 但是另一方面基于它的扫描曝光原理产能又太低。步进式光刻机目前可以满足精度和产能两方面的需求，但是居高不下的机器价格又使得生产成本的控制捉襟见肘。
自从1996年美籍华人史蒂芬.周首先提出了纳米压印光刻技术的概念后，在全球范围内掀起了一场科研领域的高潮。众多的文章中都提到纳米压印光刻很有可能取代现有步进式光刻成为下一代主流光刻技术，是极紫外光刻技术最有力的竞争者。它具有高分辨率，高产能以及低生产成本等特性。基于软模压印技术，德国苏斯光刻机有限公司与飞利浦研发部门MiPlaza联合开发出以苏斯掩模光刻机为基础的基底完整压印光刻（SCIL- Substrate Conformal Imprint Lithography）技术，实现了纳米压印光刻工艺中的“软”与“硬”的完美结合，在工程设计和技术工艺上很好的解决了上面提到的纳米压印光刻中所面临的各种难题，为科研单位和大规模生产的工业用户提供高效可行的纳米压印光刻解决方案。这次报告我将系统地介绍SCIL技术以及产业化应用前景。
报告人简介:
1996-2000,本科,北京科技大学
2001-2004,硕士,德国亚琛工业大学
2004-2007,博士,德国马普微结构物理所,马丁路德大学
2007-2008,研发工程师, 丹麦NIL公司
2008-present,项目主管,德国苏斯微光刻技术公司
主持人：罗锋 特聘研究员
时 间：5月26日（周三）下午4:00
地 点：2教404
欢迎广大老师和研究生参加！